欢迎来到ag8国际亚游-主页!

ag8国际亚游-主页 联系方式
您当前位置:主页 > 新闻中心 > > 正文

ag8国际亚游留住人才吸引人才我们才能在中美科技争锋

 

  导读:中美科技战爆发已经一年多,众所周知的,芯片已成为美国对付中国的最强有力的手段。从一开始的芯片产品断供,到目前的产品技术的全面断供。面对如此严峻的形势,我们只能挺起腰杆直面挑战,除此之外别无他选。至于结果如何,相信历史将会告诉我们。

  目前光刻机已经成为中国半导体发展最大的拦路虎,而代表着世界最先进水平的当属荷兰ASML公司的EUV光刻机。荷兰公司ASML拥有最先进的光刻机技术,垄断顶级光刻机市场,其公司总裁曾扬言,就算把制造光刻机的图纸发送到其他国家,制造出的光刻机依然无法做到与ASML一样。我国光刻机起步晚,上海微电子计划明年才能交付首台国产的28nm的immersion光刻机。目前全球最先进的EUV光刻机是7nm,5nm也很快实现量产,国产光刻机与全球顶级光刻机差距还是很大。

  光刻机最关键的因素就是光源以及镜头的综合技术,凭借着在相机方面的技术积累,日本的尼康和佳能在上世纪八九十年代占据着光刻机大部分的市场。毫不夸张的说,如果没有ASML这个搅局者出现,尼康和佳能仍然还会是光刻机的霸主。

  光刻机技术演变方向的转折点,始于157nm光源干刻法与193nm光源湿刻法的技术之争,当时台积电的一个工程师,ag8国际亚游名字叫做林本坚,提出了一个叫做“沉浸式光刻”方案,即在透镜和硅片之间加一层水,原有的193nm激光经过折射,不就直接越过了157nm的天堑,降低到132nm了吗?

  不过林本坚跑遍当时的主要半导体巨头,游说巨头们尝试他这个设想,但都吃了闭门羹。尼康这些等日本巨头认为,这个方案实现上存在巨大的困难,而且一旦投入这个方案研究,甚至可能耽误影响自己在光源干刻领域的优势地位,所以没有进行投入进行新研究,而选择按部就班。

  此时的ASML(中文译名阿斯麦)只不过是飞利浦旗下的一家合资小公司而已,在半导体行业没有任何优势,如果逐步发展的话,那只能永远落后于尼康这些巨头,所以在林本坚即将放弃的情况下,ASML决定赌一把,押注浸润式技术,或许有可能以小博大,当然失败了也无非就这样。

  最终证明ASML是正确,在2004年第一台光源湿刻样机出来之后,顺利拿到了IBM和台积电等大客户的订单,此时的尼康才反应过来,一步落后步步落后。

  半导体技术演化的路径并非唯一的,目前芯片的单元是硅晶体管,但是随着摩尔定律极限的逼近,硅晶体技术突破的难度越来越大,技术进步的速度也趋于缓慢,这一点对于我们来说是一个机遇。芯片技术还有光子芯片、量子芯片、碳晶芯片,目前这几项技术虽然都有了长足的进步,但是离达到商用要求还有一定距离。

  媒体介绍,全球十大芯片设计公司,有六个是华人掌管,由此证明中国人的天赋是挺高的。林本坚这类人才是推动ASML和台积电实现弯道超车的重要因素。单个企业想要全面的布局所有技术的发展几乎是不可能的事情,这个需要国家做出规划,系统化的培养、吸引、留着人才。更需要规划好产业链并出台相关鼓励政策,促进半导体全产业的共同发展。这样,研发出来的产品有市场,研发和生产的延续性得以保证。

  美国的全面封杀,对于我国科技发展很可能是一个难得机遇,让中国政府和企业不再对美国科技业心存侥幸心理,下定了发展自己标准自己技术的决心。无论多么艰苦,我们一次又一次的突破外国技术封杀的案例数不胜数,我们有信心有能力将问题解决。未来必须掌握在自己手里,一起加油。

  (想了解更多科技资讯、科技生活好物,请关注科技探源,欢迎大家留言讨论交流,记得帮忙点赞转发哦)

13703957677

联系人:王经理 电话:13703957677 邮箱:677433@163.com 地址:河南省 灵宝市 站街镇工业园区68号
Copyright ©2015-2020 ag8国际亚游-主页 版权所有 ag8国际亚游保留一切权力!